XUV

Mit den Geräten der Serie XUV® lassen sich dank Vakuum-Messkammer leichte Elemente ab Natrium mittels Röntgenfluoreszenz-Analyse (RFA) nachweisen. Dies ist für gewöhnlich aufgrund der strahlungsabsorbierenden Raumluft mit dieser Methode nicht möglich. Somit eignet sich das Gerät ideal für sehr anspruchsvolle Messaufgaben rund um Schichtdickenmessung und Materialanalyse.

XUV: Röntgenfluoreszenzanalyse für leichte Elemente

Merkmale

  • Dank niedriger Nachweisgrenzen, hoher Wiederholpräzision und universell erweiterbaren Messmöglichkeiten besonders geeignet für Forschung und Entwicklung
  • Präzise Messung selbst leichter Elemente dank Vakuum-Kammer und leistungsstarkem Silizium-Drift-Detektor
  • Automatisierte Serienprüfung dank programmierbarer X-, Y- und Z-Achsen
  • Durch wechselbare Blenden und Filter flexibel auf die Ansprüche verschiedener Materialien und Messbedingungen anpassbar

Anwendungen:

Schichtdickenmessung

  • Schichten aus leichten Elementen ab Natrium im Nanometerbereich
  • Aluminium- und Siliziumschichten

Materialanalyse

  • Bestimmung der Echtheit und der Herkunft von Edelsteinen
  • Allgemeine Materialanalyse und Forensik
  • Hochauflösende Spurenanalyse

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INSTITUT FÜR ELEKTRONIK UND MESSTECHNIK
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